磨料在cmp拋光液中的作用

拋光劑是cmp拋光液的主要成分。在拋光過(guò)程中，它通過(guò)微切割、微刮擦、滾壓等作用于工件表面。，以實(shí)現(xiàn)機(jī)械去除材料的功能。

拋光液根據(jù)磨料成分一般分為單一磨料拋光液、混合磨料拋光液和復(fù)合磨料拋光液

研磨劑在cmp拋光過(guò)程中的作用是：

1、機(jī)械動(dòng)作的實(shí)施者，起著機(jī)械研磨的作用；

2、材料傳輸?shù)墓δ?，不僅在拋光墊和拋光材料之間傳輸新鮮漿料，還可以從材料表面去除反應(yīng)物，漏出材料的新表面，以進(jìn)一步減少反應(yīng)。

因此，在選擇cmp拋光液時(shí)，要記得考慮分散性好、流動(dòng)性好、硬度適中且易于清潔的拋光液產(chǎn)品。選擇可靠的制造商很重要！大家如有相關(guān)問(wèn)題需要咨詢(xún)可以隨時(shí)聯(lián)系我公司了解詳情。